技術特(tè)點:● 亞微米線寬(kuān)工藝 ● 高均勻性和一致性 ● 去離子水減少高達80% ● 工藝介質減少高達80% ● 封(fēng)閉式(shì)係統 ● 可柔性多腔(qiāng)室組合 | 設(shè)備(bèi)用途:● 閃蝕(shí)工藝 ● 清洗工藝 ● 剝膜工藝 ● 顯像工藝 |
技術特點:● 亞微米線寬工藝 ● 高(gāo)均勻性和一致性(xìng) ● 去離子水減少高達(dá)80% ● 工藝介質減少高達80% ● 封閉式係統 ● 可柔性多腔室組合(hé) | 設備用途:● 閃蝕(shí)工藝 ● 清洗(xǐ)工藝 ● 剝膜工藝 ● 顯像工藝 |
技術特(tè)點:● 亞微米線寬(kuān)工藝 ● 高均勻性和一致性 ● 去離子水減少高達80% ● 工藝介質減少高達80% ● 封(fēng)閉式(shì)係統 ● 可柔性多腔(qiāng)室組合 | 設(shè)備(bèi)用途:● 閃蝕(shí)工藝 ● 清洗工藝 ● 剝膜工藝 ● 顯像工藝 |